DC RF MF Magnetron Sputterablagesystem für hohe Qualität Produkte

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Product origin: Ningbo, Zhejiang, China
Infringement complaint: complaintComplaint
US$ 55000 ~ 87000

Description
DC RF MF Magnetron Sputtering Deposition System

[PVD]  
Physikalische Dampfabscheidung: Vakuumabscheidungsverfahren, die zum Ablegen von dünnen Filmen und Beschichtungen verwendet werden können.



Beschreibung  
Multi-Arc Ion Sputtering Coating Machine  ist leistungsstark und einfach zu bedienen, mit Arc Sputtering System ausgestattet.

Substrat Material: Glas, Metall, Keramik Glas, Metall (Kohlenstoffstahl, Edelstahl, Messing), Keramik, Kunststoff, Schmuck.
Empfehlen Maschine: Multi Arc Magnetron Sputtering Plating Machine
Struktur Typ:  Vertikale Struktur, #304 Edelstahl
A. Beschichtungsfolie: Multifunktionale Metallfolie, Verbundfolie, transparente leitfähige Folie,  Reflexionsverstärkender Film, elektromagnetische Abschirmung, Dekorfolie
B. Filmfarbe: Gold, Roségold, Silber, bunt, Saphirblau, Pistole schwarz, braun, dunkelschwarz, etc
C. Filmtyp: Tin, CRN, ZRN, TiCN, TiCRN, TINC, TiAlN und DLC
D. Verbrauchsmaterialien in der Produktion: Titan, Chrom, Zirconium





Prozess

Anwendung
A. Uhrenindustrie, wie Uhrengurt, Uhrengehäuse, Zifferblatt usw.
B. Hardware, wie Sanitärkeramik, Türgriff, Türschlösser
C. Bauindustrie, wie Edelstahl-Platte, Treppengeländer, Säulen
D. Telefongehäuse, Teile
E. Schmuck, Brillengestell

F. Glaswaren, wie Glas Tasse, Glaslampen, Glas Kunstwerke
G. Tischwaren, wie Metallgabeln und Messer.
H. Golf Waren, wie Golfkopf, Golfstange und Golfbälle.
 I. Sanitärprodukte/Badwaren

J. großes Blatt, Platte, Rohr, Rohr und so weiter. Wie große Edelstahlplatte und Möbel.




Vorteile  
A. Pumpen:  
Mechanische Pumpe + Roots-Pumpe + Diffusionspumpe + Haltepumpe (oder optional: Kryogenpumpe, Kryogenpumpensystem)
B. Gassystem: 1-4 Pfad
C. begrenztes Vakuum: 6*10-4  pa (Reinraum, ohne Beladung)
D. Ziele: Bogen 6-18sets, Magnetron-Ziel 1-2sets
E. Energiequellen: DC-Stromversorgung, Mittelfrequenz-Stromversorgung, Mittelfrequenz-Stromversorgung, Heizung, Aktivierung Stromversorgung, gepulste Bias Spannung Stromversorgung
F. Ziele: DC-magnetisches Ziel, Ziel des mittleren Zwillings, Ziel der Ebene
H. Gaszeit : 5*10-4  pa, innerhalb 30mins
I. gesteuert durch manuell, Halbautomatisch, Vollautomatik, SPS




 
Workshop  




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