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| Eingangsleistung | 220Vac 50/60Hz, einphasig 2000W (einschließlich Pumpe) |
| Stromversorgung | Zwei Sputterquellen sind in einem Steuerkasten integriert DC-Quelle: 500W für die Beschichtung metallischer Materialien RF-Quelle: 600W mit automatischer Beschichtung von nichtmetallischen Materialien ( Mitte) Die kompakte 300-HF-Quelle ist gegen Aufpreis erhältlich |
| Magnetron Sputterkopf | Zwei 2" Magnetron Sputterköpfe mit Wasserkühlung Jacken sind Enthalten Eines ist an die HF-Stromversorgung für nicht leitfähige Materialien angeschlossen Ein weiterer ist an die DC-Sputterquelle für die Beschichtung angeschlossen Metallische Materialien Zielgröße Anforderung: 2" Durchmesser Dickenbereich: 0, 1 - 5 mm für metallische und nicht-leitfähige Targets Ein Edelstahl- und ein Al2O3-Keramikziel sind im Lieferumfang enthalten Für Demotests Wasserkühlung: 10ml/min Wasserdurchfluss erforderlich, und ein 16ml/min digital gesteuerter Umlaufwasserkühler ist für die Kühlung beider Magnetron-Sputterköpfe enthalten Kundenspezifischer Beschichter: Zwei DC-Kopf ohne, HF-Sputtering, HF-Kopf ohne DC-Sputtering, 3 RF-Kopf sind auf Anfrage erhältlich |
| Vakuum Kammer | Vakuumkammer: 300 mm Durchmesser x 300 mm Höhe, aus Edelstahl Beobachtungsfenster: 100 mm Durchmesser Klappdeckel oben mit Luftfeder Sport macht Zielaustausch leicht gemacht |
| Probenhalter | Größe des Probenhalters: 140mm Durchm. Für. 4-Zoll-Wafer max (Kann auch als Ihre Anforderung konzipiert werden) Die Drehzahl des Probenhalters ist einstellbar: 1 - 20 U/min für eine gleichmäßige Beschichtung Die Temperatur des Halters ist von RT bis 500 Grad Celsius einstellbar Mit Genauigkeit +/- 1, 0 Grad |
| Gasfluss Kontrolle | Zwei Präzisions-Digital-MFC (Massenflussregler) Sind installiert, damit zwei Arten von Gasen sein können Ausgefüllt Durchflussrate: Max. 200 ml/min Die Durchflussrate kann über die 6-Zoll-Touchscreen-Steuerung eingestellt werden Fenster |
| Vakuumpumpe Station | Das Hochgeschwindigkeits-Turbovakuumpensystem (Made in Germany) wird direkt auf der Vakuumkammer für max. Vakuumniveau installiert Die zweistufige mechanische Hochleistungspumpe ist an den Turbo angeschlossen Pumpe für höhere Pumpendrehzahl Mobile Pumpstation ist inklusive und der kompakte Sputterbeschichter Kann auf der Station gestellt werden Max. Vakuumniveau: 10^-6 Torr mit Kammerbacken |
| Dicke Überwachen | Ein Präzisions-Quarzdickensensor ist in die Kammer integriert Zur Überwachung der Schichtdicke mit einer Genauigkeit von 0, 10 Å LED-Anzeigeeinheit außerhalb Kammer kann: 5 Stück Quarzsensoren (Verbrauchsmaterial) Sind enthalten Das zu beschichting Eingangsmaterial wird gemäß der enthaltenen Datenbank verwendet Anzeige der Gesamtdicke und Beschichtungsgeschwindigkeit Wasserkühlung ist erforderlich |
| Insgesamt Abmessungen | L1300mm× W660mm× H1200mm |
| Nettogewicht | 160 kg |
| Garantie | 1 Jahr beschränkte Garantie mit lebenslanger Unterstützung |
| Anwendungshinweis | Um Sauerstoff aus der Kammer zu entfernen, empfehlen Sie, 5% Hytrogen + 95% Stickstoff zu Clan Kammer 2-3 Mal, die Sauerstoff auf unter 10 ppm reduzieren kann Bitte verwenden Sie > 5N reines Argon-Gas für Plasmasputtering. Obwohl 5N Reinheit Ar, in der Regel 10-100 ppm Sauerstoff und H2O enthalten |
