Description
Material de impresióN offset de la placa positiva PS tienen ventajas a continuacióN:
| 1.La base de aluminio de alta pureza desde calificar proveedores. |
| 2.Micro-electróNica quíMicamente el proceso de grano, generar una capa de grano |
| 3.La capa de oxidacióN anóDica duradero, la mayor tirada. |
| 4.La capa sensible a la luz, tiene una amplia latitud de exposicióN, de alto contraste en la exposicióN y el desarrollador, la reproduccióN fiel. |
| 5.La capa de vacíO, máS ráPido de la placa de la pelíCula Contacto, acortar el proceso de exposicióN. |
| 6.CXK disponibles para ofrecer la gama de espesor en:0,15 mm 0,40mm y 0.15mm puñEtazos. |
Para obtener el mejor efecto de la placa, tenga en cuenta los siguientes mientras estáUsando CXK placa PS:
1.La exposicióN
A.Fuente de luz:Abrir en la oscuridad o luz amarilla.El yodo de la luz de galio es sugerido como fuente de luz de la exposicióN.
B.El tiempo de exposicióN:60-80segundos ( en funcióN de:3000W, 1m de distancia de la luz, la nueva luz)
C.FUJI la escala de grises podríA ayudar a fijar en un mejor tiempo de exposicióN:2ºPaso en blanco, paso 3ºSuscribieron.
Nota:Por favor, fijar un tiempo de exposicióN razonable de acuerdo a la fuente de luz, energíA, brillo, la distancia y todo lo relacionado con la situacióN.
2.Desarrollar
A.El tiempo de proceso:30-60 segundos.
B.La temperatura de la solucióN:25°C ±1 °C
Nota:Por favor, renovar o completar el desarrollador de forma regular y prestar atencióN a una solucióN adecuada densidad.
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