La pureza del 99,999% trifluoruro de nitrógeno Gas NF3

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Product origin: Qingdao, Shandong, China
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US$ 25 ~ 35

Description
Trifluoruro de nitrógeno   NF3    CAS:7783-54-2
Aplicaciones:trifluoruro de nitrógeno se utiliza en el plasma aguafuerte de obleas de silicio. Hoy en día trifluoruro de nitrógeno es predominantemente empleadas en la limpieza de las cámaras PECVD en el alto volumen de producción de pantallas de cristal líquido y basada en silicio solar película delgada de células. En estas aplicaciones NF3 es inicialmente desglosado in situ, por un plasma. El resultado de los átomos de flúor son los agentes de limpieza activa que atacan el polisilicio, nitruro de silicio El silicio y el óxido. Trifluoruro de nitrógeno también se utiliza en el fluoruro de hidrógeno y deuterio láseres de fluoruro, que son los tipos de láseres de química. Es preferible flúor gaseoso debido a sus propiedades de un cómodo manejo, lo que refleja su gran estabilidad.Es compatible con el acero y Monel, así como varios plásticos.
Síntesis y reactividad:
  Trifluoruro de nitrógeno es un raro ejemplo de un binario fluoruro que puede preparados directamente de los elementos sólo en muy poco frecuente en las condiciones, tales como la descarga eléctrica. Después de intentar la síntesis en el año 1903, Otto Ruff preparado trifluoruro de nitrógeno por la electrólisis de una mezcla fundida de fluoruro de amonio y el fluoruro de hidrógeno. Resultó ser mucho menos reactivo que el resto de nitrógeno El nitrógeno trihalides tricloruro, nitrógeno y nitrógeno tribromide triyoduro, que son explosivos. Solo entre el nitrógeno trihalides posee una entalpía negativo de la formación. Hoy, es preparada por reacción directa de amoníaco y el flúor y por una variación de la gorguera método. Se suministra en botellas a presión.
Las impurezas        La NF3  ≥ 99,995%     La NF3  ≥ 99,99%.    La NF3 ≥ 99,98%    La NF3  ≥  99,9%  
CF4 ≤20 ppm de vol. ≤40 ppm de vol. ≤100 ppm de vol. ≤ 500 ppm de vol.
N2 ≤5 ppm de vol. ≤5 ppm de vol. ≤10 ppm de vol. ≤50 ppm de vol.
S2+ar ≤3 ppm de vol. ≤5 ppm de vol. ≤10 ppm de vol. ≤50 ppm de vol.
El CO2 ≤1 ppm de vol. ≤5 ppm de vol. ≤10 ppm de vol. ≤10 ppm de vol.
H2O. ≤1 ppm de vol. ≤1 ppm de vol. ≤1 ppm de vol. ≤1 ppm de vol.
HF ≤1 ppm de vol. ≤1 ppm de vol. ≤1 ppm de vol. ≤1 ppm de vol.
El SF6 ≤1 ppm de vol. ≤2 ppm de vol. ≤2 ppm de vol. ≤25 ppm de vol.
N2O. ≤1 ppm de vol. ≤5 ppm de vol. ≤10 ppm de vol. ≤10 ppm de vol.
CO ≤ 0,5 ppm de vol. ≤5 ppm de vol. ≤10 ppm de vol. ≤10 ppm de vol.






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