Espectrómetro de absorción atómica NB-7090
Aplicación:
El NB-7090 es el espectrómetro de absorción atómica de quinta generación desarrollado por NANBEI. Combina la calidad y precisión por las que NANBEI es conocido con características nuevas importantes. El horno de grafito NB-7090 cuenta con un diseño único con calentamiento transversal, corrección de fondo Zeeman longitudinal e intensidad de campo magnético variable. La corrección de fondo Zeeman es adecuada para el análisis de alta precisión de muestras con matrices de interferencia complejas. La intensidad variable del campo magnético permite al operador optimizar la fuerza del campo para cada elemento, maximizando el efecto Zeeman para obtener resultados precisos en todo momento.
NB-7090: el nuevo estándar para análisis de GF Zeeman de alto rendimiento disponible en una configuración en tándem de llama.
- La tecnología de calentamiento transversal del horno de grafito mejora la eficiencia y uniformidad de atomización de la muestra.
- Hay dos métodos de corrección de fondo disponibles: corrección del efecto Zeeman longitudinal y corrección de lámpara de deuterio. El operador puede seleccionar el modo más adecuado según la muestra.
- La fuerza de campo magnético ajustable única (0.6 - 1.1 Tesla, en incrementos de 0.1 Tesla) permite la optimización específica del elemento para lograr alta sensibilidad y precisión.
- 8-lámpara de torreta de lámpara automatizada con autoalineación para un cambio rápido de elementos y optimización de la posición de la lámpara
- Tecnología de reconocimiento de lámpara codificada, compatible con lámparas de cátodo hueco y súper lámparas
- Fuente de alimentación de súper lámpara de alta eficiencia, recién diseñada para una mayor sensibilidad mientras consume menos energía y genera menos calor
Diseño funcional único, fácil de operar Control automático de la altura de la cabeza del quemador:
- La altura de la cabeza del quemador se puede ajustar automáticamente utilizando un motor controlado por software. Esta función se utiliza para asegurar que la cabeza del quemador se pueda posicionar de manera precisa y reproducible en el camino óptico para optimizar el rendimiento del
- La posición de la cabeza del quemador se almacena con los parámetros del método de análisis de cada elemento en un análisis de llama de múltiples elementos. Durante una ejecución de muestra, cada elemento se analizará a la altura óptima sin intervención del operador. La siguiente figura muestra la sensibilidad obtenida cuando la altura de la cabeza del quemador de cada elemento se optimiza por separado (púrpura) en comparación con la sensibilidad obtenida cuando la altura de la cabeza del quemador se optimiza solo para un elemento, cobre (cian).
| Reconocimiento de lámpara codificada: | Simplemente insertando la lámpara de elemento en el soporte de la lámpara, el software identificará automáticamente el elemento y la posición de la lámpara. Esta función elimina por completo la posibilidad de error del operador al ingresar información de la lámpara en la lista de lámparas de elementos. |
| Fuente de alimentación de lámpara súper: | Las súper lámparas son lámparas de cátodo hueco de ultra alta intensidad especialmente diseñadas que proporcionan más energía óptica. Para ciertos elementos, como As, Se, Cd, Ni y Pb, las súper lámparas pueden mejorar significativamente el límite de detección, la sensibilidad y la linealidad.
El espectrómetro de absorción atómica AA-7090 puede equiparse con hasta cuatro fuentes de alimentación de súper lámpara. |
| Sistema de visualización del horno de grafito:: | El sistema de visualización del horno de grafito utiliza una cámara para ver la llama o el horno de grafito.
Esta función es indispensable para el desarrollo de métodos de horno de grafito. El operador puede observar todo el proceso de análisis desde la inyección hasta la atomización en tiempo real. Utilizando información visual, se pueden establecer correctamente los parámetros de desolvatación, secado y incineración para producir resultados reproducibles y precisos. |
| Modo de ahorro de gas del horno de grafito: | El control inteligente del interruptor de gas de protección maximiza el uso efectivo del gas de protección y reduce el desperdicio cuando no se necesita gas, lo que reduce el costo de operación.
Excelente rendimiento, resultados precisos garantizados |
| Calentamiento transversal de vanguardia, tecnología de horno de grafito de efecto Zeeman longitudinal: | - En comparación con los diseños de horno de grafito de efecto Zeeman transversal, el horno de grafito de efecto Zeeman longitudinal tiene la ventaja de no necesitar un polarizador ubicado a lo largo del camino óptico. Esto resulta en un aumento del doble en la cantidad de energía que llega al detector, lo que proporciona una mayor sensibilidad y una mejor linealidad de corrección. El calentamiento transversal del horno de grafito tiene la ventaja de una mayor temperatura y una mayor uniformidad de distribución de temperatura, lo que promueve la atomización de la muestra con alta eficiencia y uniformidad.
- El diseño eficiente del horno de grafito y el control preciso de la temperatura proporcionan al usuario un entorno de análisis confiable y controlado con precisión. Esto permite que el NB-7090 realice análisis automatizados de múltiples elementos y múltiples muestras con excelente estabilidad y repetibilidad.
- Además, una velocidad máxima de calentamiento de 2500 /seg garantiza condiciones óptimas de atomización para todos los elementos.
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| Fuerza magnética variable única: | Una fuerza magnética constante para todos los elementos conduce a limitaciones severas en el rendimiento analítico para muchos tipos de muestras. El AA-7090 logra una corrección de fondo y una sensibilidad óptimas al permitir la optimización de la fuerza del campo magnético para cada combinación de elemento/matriz. El campo magnético aplicado se puede variar desde un mínimo de 0.6 hasta un máximo de 1.1 Tesla en incrementos de 0.1 Tesla. Esto permite al operador establecer la fuerza de campo óptima para cada elemento, maximizando el efecto Zeeman según se mide a través de la relación de sensibilidad magnética (MSR).
La corrección de fondo variable permite ajustar la fuerza de campo para maximizar tanto la precisión como la sensibilidad. Esto produce resultados precisos en todo momento. |
| Ruta de gas doble única: | El NB-7090 cuenta con un diseño único de doble ruta de gas, con una ruta de gas interna y una ruta de gas auxiliar. El gas auxiliar se controla a través del software. La adición de gas auxiliar promueve la incineración de la muestra y protege el tubo de grafito, lo que permite más disparos antes de reemplazarlo. |
| Hay dos modos de corrección de fondo: | El operador puede seleccionar entre el efecto Zeeman y los modos de corrección de lámpara de deuterio según los requisitos de una matriz de muestra en particular. |
Accesorios:
El NB-7090 funciona con el autosampler de horno AS-500 de NANBEI y el autosampler de llama/horno AS-600.
También se puede utilizar con el generador de hidruros de NANBEI y otros accesorios.
Óptica:
Rango de longitud de onda: 190 nm ~ 900 nm
Ancho de banda: 0.1, 0.2, 0.4, 1.0 y 2.0 nm, cambio automático
Monocromador de rejilla Czerny-Turner Precisión de longitud de onda / Error de indicación: ± 0.1 nm Repetibilidad de longitud de onda: ≤ 0.05 nm
Rejilla: 1800 líneas / mm Longitud de onda de resplandor: 250 nm
Estabilidad de línea de base: estabilidad de línea de base estática ≤ 0.002 A / 30 min, estabilidad de línea de base dinámica ≤ 0.003 A / 30 min
Resolución: mejor que 0.1 nm
Sistema de horno de grafito:
Concentración característica de Cd: ≤ 0.5×10-12 g Límite de detección: ≤ 1×10-12 g RSD ≤ 3.0%
Control de temperatura: programa de temperatura de hasta 20 pasos. 3 modos de aumento de temperatura: paso, pendiente y plano.
Modo de calentamiento: calentamiento por potencia Tasa de calentamiento: ≥ 2500 / s
Sistema de llama:
Concentración característica de Cu: ≤ 0.02 µg / mL / 1% Límite de detección: ≤ 0.003 µg / ml RSD ≤ 0.45%
Cabeza del quemador: cabeza del quemador de titanio conmutable de 50 mm y 100 mm, nebulizador de titanio y nebulizador de vidrio de alto rendimiento
Control de posición: optimización de altura y ángulo, cambio de llama e hidruro en un minuto
Corrección de fondo:
La corrección de fondo está disponible tanto para los métodos de llama como para los de horno de grafito. Lámpara de deuterio para llama. Lámpara de deuterio o Zeeman para horno de grafito.
Modo de corrección: lámpara de deuterio, corrección Zeeman Capacidad de corrección:
- Lámpara de deuterio: cuando la absorción de fondo se acerca a 1.0 Abs, el instrumento es capaz de uncorrección de fondo de 60 veces o más.
- Zeeman: cuando la absorción de fondo se acerca a 2.0 Abs, el instrumento es capaz de una corrección de fondo de 100 veces o más.
Procesamiento de datos:
Métodos de medición: absorción de llama, emisión de llama, horno de grafito y método de hidruros.
Método de análisis: ajuste lineal, ajuste no lineal, método de adición estándar.
Salida de impresión: la curva de calibración, el espectro, las condiciones de análisis, los parámetros de análisis y los resultados de análisis se pueden almacenar e imprimir automáticamente.
Disponible las 24 horas en línea para garantizar una respuesta rápida a las consultas o mensajes en línea de los clientes;
· Guía a los clientes para elegir el modelo de máquina más adecuado;
· Ofrecer especificaciones detalladas y precios competitivos;
Ejecución del contrato
· La producción de la máquina se organizará estrictamente de acuerdo con el contrato;
· Se le enviarán fotos de la máquina para su inspección durante la producción;
· Enviar documentos de despacho de aduana por DHL;
· Actualizar las últimas noticias después de la entrega y preparar el despacho de aduana;
Servicio postventa
· Garantía de 12 meses excepto por piezas de desgaste;
· Se enviarán piezas de repuesto rotas (excepto las piezas de desgaste) de forma gratuita debido a problemas de calidad;
· Respuesta rápida a los problemas técnicos de los clientes;
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