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Haz de electrones (e-beam) evaporación -- Información general
Durante un e-beam, el actual proceso de evaporación se pasa primero a través de un filamento de tungsteno, que conduce a JOULE, calefacción y la emisión de electrones. Alta tensión se aplica entre los filamentos y el corazón para acelerar los electrones liberados hacia el crisol que contiene el material depositado. Un fuerte campo magnético se concentra el haz de electrones en un sistema unificado; a su llegada, la energía de este haz de electrones se transfieren a la deposición de material, causando que se evapore (o sublimar) y el depósito en el sustrato. La adición de una presión parcial del gas reactivo, como el oxígeno o nitrógeno a la sala durante la evaporación puede utilizarse para reactiva no metálicos de depósito de películas.
Haz de electrones de la evaporación del sistema de revestimiento de PTFE PDMS material PI
Haz de electrones de la evaporación tiene muchas ventajas sobre la evaporación térmico resistivo. En primer lugar, el e-beam fuente es capaz de calentar los materiales a gran parte de temperaturas más altas que es posible utilizando un barco resistente o crisol calentador. Esto permite tasas de deposición de muy alta y la evaporación de los materiales refractarios de alta temperatura y metales como el tungsteno, tántalo, o grafito. En segundo lugar, las películas depositado por el haz de electrones de la evaporación es mejor mantener la pureza del material de origen; el agua de refrigeración el crisol bien limita el haz de electrones calefacción sólo a la zona ocupada por el material de origen, la eliminación de cualquier contaminación no deseada de los vecinos de los componentes. Por último, haz de electrones de la evaporación las fuentes están disponibles en una variedad de tamaños y configuraciones que incluyen uno o varios bolsillos. La indización de bolsillo con un carrusel motorizado permite una fuente para depositar muchos materiales desde una única ubicación de origen.Especificaciones de E-beam evaporación coater
| El nombre del producto | Haz de electrones de la evaporación del sistema de revestimiento de PTFE PDMS material PI |
| El modelo del producto | CY-X-BEI500 |
| Condición de servicio | La temperatura ambiente variaba de 5 a 40ºC |
| Fuente | Tres fase 380V |
| La tensión | 220V 50Hz |
| La alimentación | <20 kW |
| Medidor de agua | <2.5bar |
| Vigilancia de la capa chapado | El uso de SQM160 el espesor de membrana de monitor, la falta de homogeneidad del espesor del recubrimiento es inferior a 6%. |
| Lámpara de calor | Cuatro lámparas de calor halógeno fueron utilizados para la desgasificación y una luz de neón para iluminación |
| La interfaz electrodo | Con un 2 vías de la interfaz electrodo de evaporación de metal, copia de seguridad |
| Sistema de refrigeración de agua | Monitoreo de presión de agua |
| Ventana de observación | 100mm de diámetro, con filtro de cristal de rayos X. |
| Sistema de control | Sistema de pantalla táctil |
| Dimensiones de la cámara de vacío | Cámara de evaporación dimensiones: Φ 500 * H500mm |
| Cañón de electrones | La nueva pistola electrónica, un crisol de 6 orificios |
| Plataforma giratoria de la muestra | El tamaño de muestra: <150mm, la tabla de ejemplo puede rotar, la tabla de ejemplo de la superficie y el cañón de electrones de ajuste de distancia de la superficie hacia arriba y abajo, el ajuste la distancia de 200mm-250mm, la tabla de ejemplo puede ser calentado, temperatura de calentamiento <500ºC. |
| Grado de depresión del sistema | A. limitar el vacío: la cocción de 12~24 horas, bombeo continuo, vacío de menos de 5x10-5PA B. Tasa de extracción de vacío: <5x10 en 40 minutos, a partir de la atmósfera-4Pa C. La tasa de fugas del sistema: después de 12 horas de cierre, medir el grado de vacío de la cámara de vacío es <10Pa |
| La unidad de vacío | FB1200 + bomba Molecular VRD-16 delante de la bomba de la etapa de extracción lateral + válvula de compuerta válvula + + + válvula de corte de medidor de vacío recubrimiento compuesto + control dosificador interface (en espera). |
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