El horno limpio se utiliza ampliamente en el tratamiento/secado de calor o la quemadura de obleas de semiconductores, cristales líquidos, discos y otros componentes y dispositivos que requieren condiciones de aire limpio. Estas unidades también pueden prepararse para su instalación en entornos de salas limpias. La limpieza de clase 100 se consigue empleando un filtro HEPA y un sistema de circulación laminar de espalda a frente. El horno de alto rendimiento proporciona un rendimiento estable incluso durante el calentamiento o la refrigeración.
Temp. Rango | Temp. Ambiente +20~200°C |
Precisión de control | +/- 1,0°C |
Temp. Precisión de la distribución | ±2 °C (a 100 °C), ±3 °C (a 150 °C) |
Temp. Tiempo de subida | Aproximadamente 25min (temperatura ambiente→150°C). Cámara vacía |
Función de funcionamiento | Opcional para temperatura fija o funcionamiento del programa |
Dimensiones interiores Al x An x Pr | 910x620x620 (mm) 35,8 x 24,4 x 24,4 (pulgadas) |
Dimensiones exteriores Al x An x Pr | 1750 x 855 x 1030 (mm) 68,9 x 33,7 x 40.6 (pulgadas) |
Capacidad del espacio de trabajo | 350L (12,3 pies cúbicos) |
Fuente de alimentación | 3 fase AC380V |
GMS puede proporcionar diferentes niveles de uniformidad, tamaño, rango de temperatura; si tiene una tolerancia o especificación específica que debe cumplir, póngase en contacto con nosotros para que podamos garantizar que el equipo está diseñado, probado y ajustado para cumplir con esos requisitos.