La especificación | Vagón cisterna:26m³ Contenido: 28toneladas | |||
Aplicación | 1. Se utiliza como gas de protección para la producción de silicio de alta pureza y el germanio cristales en la industria de semiconductores. 2.utiliza como gas inerte para el sistema de limpieza, protección y la presurización. 3. Puede aplicarse en chemical vapor deposition, sputtering, recocido y otros procesos. 4. Se utiliza como portador de cromatografía de gas, y también puede ser utilizado como un gas de dilución de la mezcla de gas a gran escala en los circuitos integrados. |