Bijoux Watchcase or Arc cathodique pulvérisation équipement de placage sous vide
[PVD] Dépôt physique de vapeur : méthodes de dépôt sous vide pouvant être utilisées pour déposer des couches minces et des revêtements.
Description La machine de revêtement par pulvérisation d'ions multi-arc est très performante et facile à utiliser, équipée d'un système de pulvérisation d'arc. Matériau du substrat : verre, métal, céramique, verre, métal (acier au carbone, acier inoxydable, Laiton), céramique, plastique, bijoux. Machine recommandée : machine à placage multiarc Magnetron Type de structure : structure verticale, acier inoxydable 304 A. film de revêtement : film métallique multi-fonctionnel, film composite, film conducteur transparent, film à réflexion croissante, film de protection électromagnétique, film décoratif B. couleur du film : or, or rose, argent, coloré, bleu saphir, noir canon, marron, noir foncé, etc C. Type de film : TiN, CRN, ZrN, TiCN, TiCrN, TINC, TiALN et DLC D. consommables en production : titane, chrome, zirconium
Processus
Application A. l'industrie de la montre, comme la ceinture de montre, l'étui de montre, le cadran, etc B. matériel, comme les sanitaires, la poignée de porte, les serrures de porte C. l'industrie de la construction, comme les tôles d'acier inoxydable, les rampes d'escalier, les colonnes D. coque du téléphone, pièces E. bijoux, monture de lunettes F. Verrerie, comme une tasse de verre, des lampes en verre, des œuvres d'art en verre G. articles de table, comme les fourchettes et les couteaux en métal. H. matériel de golf, comme la tête de golf, le poteau de golf et les balles de golf. I. produits sanitaires/articles de toilette J. feuille, plaque, tuyau, tube, etc. De grande taille. Comme les grandes plaques et les meubles en acier inoxydable.
Avantages A. pompes : Pompe mécanique + pompe Roots + pompe de diffusion + pompe de maintien (ou en option : pompe cryogénique, système de pompe cryogénique) B. système de gaz : 1-4 voies C. vide limité : 6*10-4 pa (salle blanche, sans charge) D. cibles : arc 6-18sets, cible magnétron 1-2sets E. sources d'alimentation : alimentation CC, alimentation moyenne fréquence, alimentation moyenne fréquence, alimentation de chauffage, alimentation d'activation, alimentation de tension de polarisation pulsée F. cibles : cible magnétique c.c., cible double moyenne, cible de plan H. temps de gaz : 5*10-4 pa, dans les 30 min I. contrôlé par manuel, semi-automatique, entièrement automatique, PLC
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