Номер кода | Химический состав % | Механические свойства | ||||||
CU | Примеси | W | Плотность (Г/см3 ) | Жесткость HB | RES (См) | Проводимость Дк/ % | TRS/ Мпа | |
CuW50 | 50+/-2,0 | 0,5 | Баланс | 11,85 | 115 | 3.2 | 54 | |
CuW55 | 45+/-2,0 | 0,5 | Баланс | 12.3 | 125 | 3.5 | 49 | |
CuW60 | 40+/-2,0 | 0,5 | Баланс | 12,75 | 140 | 3.7 | 47 | |
CuW65 | 35+/-2,0 | 0,5 | Баланс | 13.3 | 155 | 3.9 | 44 | |
CuW70 | 30+/-2,0 | 0,5 | Баланс | 13.8 | 175 | 4.1 | 42 | 790 |
CuW75 | 25+/-2,0 | 0,5 | Баланс | 14.5 | 195 | 4.5 | 38 | 885 |
CuW80 | 20+/-2,0 | 0,5 | Баланс | 15.15 | 220 | 5 | 34 | 980 |
CuW85 | 15+/-2,0 | 0,5 | Баланс | 15.9 | 240 | 5.7 | 30 | 1080 |
CuW90 | 10+/-2,0 | 0,5 | Баланс | 16.75 | 260 | 6.5 | 27 | 1160 |
W стержни чистоты | 99,95 |
Плотность | >19,2 г/см3 |
Плоскостность | <2% |
Размер | Диаметр(2.0-100)*L (мм) |
Поверхность | Черный, соединение на массу и полированным |
Цены | Как и количество заказа поверхности |
срок поставки | 7-15 дней |
Приложение | Используется в электрических печах повышение стекла электрода Подходит для производства Ионная имплантация частей; Для производства электрической части источника света и электрических компонентов вакуумного; Для производства нагревательных элементов и деталей в высокотемпературных печей; Используется в качестве электродов в области редкоземельные металлические промышленности. |