Complaint
| Mode La dimensión | JTL-900. | JTL-1100 | JTL-1250 |
| 900*1000 mm. | 1100*1000mm | 1250*1100mm | |
| Modo de recubrimiento y de las principales confirguration | Los seis objetivos de multi-arc + un conjunto de objetivos de la columna + un juego de aviones rectángulo magnetrón sputtering objetivos | Los seis objetivos de multi-arc + un par de gemelas (MF) magnetrón sputtering objetivos | Doce multi-objetivos arco + dos conjuntos de rectángulo plano magnetrón sputtering objetivos+ un par de gemelas (MF) magnetrón sputtering objetivos |
| Fuente de alimentación | La potencia de arco eléctrico, DC magnetrón potencia, energía, de filamentos de MF magnetrón, el pulso de energía la energía, fuente de ionizado lineal | ||
| Control de gases de proceso | Caudalímetro de calidad + el electromagnetismo de la válvula de cerámica | ||
| Estructura de la cámara de vacío | Un solo lado) Vertical(puerta, el sistema de bombeo postposition, el doble de refrigeración por agua | ||
| Sistema de vacío. | La bomba de la molécula +bomba Roots +bomba mecánica(5.0*10 -5 Pa) Bomba de difusión +bomba Roots +bomba mecánica(5.0*10 -4 Pa) | ||
| La temperatura de cocción de pieza. | La temperatura normal de 350 centésimas de grado de control PID, radiante. | ||
| Modo de movimiento de la pieza | Control de frecuencia de rotación de público: 0-20 la rotación por minuto. | ||
| Modo de medición | Compuesto de visualización del número de manómetro de vacío: de la atmósfera a 1.0*10 -5 Pa | ||
| Modo de control | Manual/Automático/PC/PLC + HMI/PC cuatro opciones de control de modo | ||
| Comentario | Podemos diseñar la dimensión de los equipos del cliente según técnica especial exigencia. | ||
