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Máquina de metalización de PVD/sistema de Plato cerámico al vacío
La máquina a través de reacción de titanio con diferentes gases para obtener un revestimiento de color, hasta ahora operamos la máquina más grande para cerámica, puede producir al menos 1500 metros de superficie baldosas por 8 horas. La máquina es adecuada para revestir vajilla, azulejos, baldosas de vidrio, mosaico de vidrio, metal, también. Ya instalamos esta máquina para cerámica y vidrio en india, Irán, Turquía, España y otros países.
es un equipo altamente eficiente, sólido y sin contaminación de revestimiento de plasma, una rápida tasa de deposición de la tasa de alta energía, el equipo es simple, de bajo costo, las ventajas de la producción en gran cantidad.
La máquina cerámica de placas de iones PVD no solo está en la superficie de los productos metálicos y los productos no metálicos en el revestimiento de la superficie, puede ser una membrana chapada en oro, estaño, TIC, ZrN, CrN, TI, ni, Cr, Cu y otros compuestos película, multi-capa supersubdural, nitrógeno-dopado membrana de aleación de titanio y la membrana, y en un muy corto tiempo para completar todo el proceso de mecanizado es un equipo de recubrimiento multifuncional altamente eficiente.
Cerámica PVD Ion Plating Machine es ampliamente utilizado en herramientas, revestimientos superduros de troqueles, ruedas de automóviles, cerámica, golf, tabulación, suministros de hotel, sanitarios, lámparas, marcos de gafas, productos metálicos, revestimientos decorativos y otros campos.
Esta es nuestra máquina y muestras recubiertas:
| Dimensión | Φ1600×H1800mm | Φ1800×H1800mm | |
| configuración principal | 20 objetivos multiarco | 22 objetivos multiarco | |
| fuente de alimentación | Energía de arco eléctrico, energía de filamento, fuente de alimentación de polarización pulsada | ||
| Control de gas de proceso | Caudalímetro de masa + válvula cerámica electromagnética | ||
| Estructura de la cámara de vacío | Puerta de apertura lateral vertical, posición del sistema de bomba, refrigeración por agua doble | ||
| Sistema de vacío | Bomba de molécula+bomba de raíz+bomba mecánica(5,0*105Pa) bomba de difusión+bomba de raíz+bomba mecánica(5,0*10-4PA) | ||
| Temperatura de cocción de la pieza | Temperatura normal a 350 centi-grado control PID, calor de radiación | ||
| Modo de movimiento de la pieza | Control de frecuencia de rotación pública:0-20 rotación por minuto | ||
| Modo de medición | Visualización de números en la pausa de vacío de comosita: De la atmósfera a 1,0*10-5Pa | ||
| Modo de control | Manual/automático/PC/PLC+HMI/PC cuatro opciones de modo de control | ||
| Observación | podemos diseñar la dimensión del equipo de vacío de acuerdo con los requisitos técnicos especiales del cliente. | ||
